Effect of bias on deposition of diamond/β-SiC/Cobalt silicide composite films on WC-Co substrates by plasma assisted hot filament chemical vapor deposition施加偏压对采用等离子体辅助热丝化学气相沉积法在硬质合金上沉积金刚石/碳化硅/硅化钴复合薄膜的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | WANG Tao; JIANG Chunlei; TANG Yongbing |
| 刊名 | 集成技术 Journal of Integration Technology
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| 出版日期 | 2017 |
| 文献子类 | 期刊论文 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 语种 | 英语 |
| 源URL | [http://ir.siat.ac.cn:8080/handle/172644/11741]  |
| 专题 | 深圳先进技术研究院_集成所 |
| 作者单位 | 集成技术 Journal of Integration Technology |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | WANG Tao,JIANG Chunlei,TANG Yongbing. Effect of bias on deposition of diamond/β-SiC/Cobalt silicide composite films on WC-Co substrates by plasma assisted hot filament chemical vapor deposition施加偏压对采用等离子体辅助热丝化学气相沉积法在硬质合金上沉积金刚石/碳化硅/硅化钴复合薄膜的影响[J]. 集成技术 Journal of Integration Technology,2017. |
| APA | WANG Tao,JIANG Chunlei,&TANG Yongbing.(2017).Effect of bias on deposition of diamond/β-SiC/Cobalt silicide composite films on WC-Co substrates by plasma assisted hot filament chemical vapor deposition施加偏压对采用等离子体辅助热丝化学气相沉积法在硬质合金上沉积金刚石/碳化硅/硅化钴复合薄膜的影响.集成技术 Journal of Integration Technology. |
| MLA | WANG Tao,et al."Effect of bias on deposition of diamond/β-SiC/Cobalt silicide composite films on WC-Co substrates by plasma assisted hot filament chemical vapor deposition施加偏压对采用等离子体辅助热丝化学气相沉积法在硬质合金上沉积金刚石/碳化硅/硅化钴复合薄膜的影响".集成技术 Journal of Integration Technology (2017). |
入库方式： OAI收割
来源：深圳先进技术研究院
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