微电子与微机械系统（MEMS）中的现代光学测试技术
文献类型：期刊论文
| 作者 | 何小元 ; 康新 ; 衡伟 ; 黄庆安 |
| 刊名 | 机械强度
 |
| 出版日期 | 2001 |
| 卷号 | 23期号:4页码:447-451 |
| ISSN号 | 1001-9669 |
| 中文摘要 | 介绍了微电子和微电子机械系统（MEMS）中几种常用的变形和形貌测量方法以及相关的测量设备。其中相移云纹干涉技术用于微电子器件的面内位移测量，灵敏度可达到纳米量级。显微栅线投影技术用于MEMS的离面变形和形貌测量，灵敏度可达0.1微米。 |
| 学科主题 | 力学 |
| 收录类别 | 其他 |
| 公开日期 | 2007-06-15 |
| 源URL | [http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/17124]  |
| 专题 | 力学研究所_力学所知识产出(1956-2008) |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 何小元,康新,衡伟,等. 微电子与微机械系统（MEMS）中的现代光学测试技术[J]. 机械强度,2001,23(4):447-451. |
| APA | 何小元,康新,衡伟,&黄庆安.(2001).微电子与微机械系统（MEMS）中的现代光学测试技术.机械强度,23(4),447-451. |
| MLA | 何小元,et al."微电子与微机械系统（MEMS）中的现代光学测试技术".机械强度 23.4(2001):447-451. |
入库方式： OAI收割
来源：力学研究所
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