一种提高光电跟踪系统中脱靶量延时测量精度的方法
文献类型：专利
| 作者 | 韩俊锋; 徐思旺; 井峰 ; 阮萍; 谢小平
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| 发表日期 | 2018-11-23 |
| 专利号 | CN201810253349.4 |
| 著作权人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明专利 |
| 产权排序 | 1 |
| 其他题名 | 一种提高光电跟踪系统中脱靶量延时测量精度的方法 |
| 英文摘要 | 本发明提出一种提高光电跟踪系统中脱靶量延时测量精度的方法，解决了现有运动相移法要求跟踪机构正弦运动周期大于延时时长的限制，同时提高了脱靶量延时的测量精度。该方法首先将模拟目标置于光电跟踪系统的视场中，调节其位置使光电跟踪系统的相机能清晰成像；然后分别控制光电跟踪系统带动其光学镜头及相机做大幅值低频率和小幅值高频率的正弦运动，采用运动相移法测量这两种参数条件下的脱靶量延时，相应分别记为Tc和Ts，综合得到高精度延时为：Tf+Ts×MOD(Tc,Ts)，其中MOD(Tc,Ts)表示Tc/Ts的模值。本发明利用系统自身配置，无需增加额外软硬件，能显著提高延时测量精度，简单易行，可实施性强。 |
| 公开日期 | 2018-11-23 |
| 申请日期 | 2018-03-26 |
| 语种 | 中文 |
| 状态 | 申请中 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/30935]  |
| 专题 | 其它单位_其它部门 |
| 作者单位 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 韩俊锋,徐思旺,井峰,等. 一种提高光电跟踪系统中脱靶量延时测量精度的方法. CN201810253349.4. 2018-11-23. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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