Thermal Stability Study of GaP/High-k Dielectrics Interfaces
文献类型：期刊论文
| 作者 | Wang, Xinglu; Zhao, Yanfei（赵弇斐）; Huang, Rong（黄荣）; Li, Fangsen（李坊森）; Lu, Xiaoming（陆晓明）; Huang, Zengli（黄增立）; Shen, Yang（沈阳）; Wang, Hu; Shao, Dawei; Liu, Mengyin |
| 刊名 | ADVANCED MATERIALS INTERFACES
 |
| 出版日期 | 2017 |
| 语种 | 英语 |
| 源URL | [http://ir.sinano.ac.cn/handle/332007/5662]  |
| 专题 | 苏州纳米技术与纳米仿生研究所_大科学装置 |
| 通讯作者 | Ding SA(丁孙安) |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Wang, Xinglu,Zhao, Yanfei,Huang, Rong,et al. Thermal Stability Study of GaP/High-k Dielectrics Interfaces[J]. ADVANCED MATERIALS INTERFACES,2017. |
| APA | Wang, Xinglu.,Zhao, Yanfei.,Huang, Rong.,Li, Fangsen.,Lu, Xiaoming.,...&丁孙安.(2017).Thermal Stability Study of GaP/High-k Dielectrics Interfaces.ADVANCED MATERIALS INTERFACES. |
| MLA | Wang, Xinglu,et al."Thermal Stability Study of GaP/High-k Dielectrics Interfaces".ADVANCED MATERIALS INTERFACES (2017). |
入库方式： OAI收割
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。