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pn结及其制备方法

文献类型:专利

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作者梁凌燕; 李秀霞; 曹鸿涛; 罗浩; 刘权; 秦瑞锋
发表日期2015-04-29
专利号CN104576713A
著作权人中国科学院宁波材料技术与工程研究所
国家中国
文献子类发明
英文摘要本发明公开了一种pn结及其制备方法,该pn结包括n型Si半导体层和位于所述n型Si半导体层中部区域的p型SnO半导体层,其中,所述n型Si半导体层上设置有第一电极;所述p型SnO半导体层上设置有第二电极。本发明的pn结有明显的整流效应,可应用于发光二极管、太阳能电池、光电探测器、气敏传感器等半导体器件,扩大了氧化亚锡的应用范围。
公开日期2015-04-29
申请日期2014-12-31
状态公开
源URL[http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/15633]  
专题宁波材料技术与工程研究所_专利成果
推荐引用方式
GB/T 7714
梁凌燕,李秀霞,曹鸿涛,等. pn结及其制备方法, pn结及其制备方法, pn结及其制备方法, pn结及其制备方法. CN104576713A. 2015-04-29.

入库方式: OAI收割

来源:宁波材料技术与工程研究所

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