一种用于钐钴磁体工件表面防护的方法
文献类型:专利
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作者 | 宋振纶; 冒守栋; 晏敏胜; 聂霞; 张丽娇 |
发表日期 | 2016-04-27 |
专利号 | CN105529172A |
著作权人 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明 |
英文摘要 | 本发明公开了一种用于钐钴磁体工件表面防护的方法,在预处理的钐钴磁体工件表面沉积Ni系薄膜,再经真空热处理,得到表面防护的钐钴磁铁。本发明中,通过在钐钴磁铁表面沉积得到结构致密的Ni系薄膜,能够有效隔绝氧化介质,在Ni系薄膜表面再沉积防护膜,又能够进一步提高薄膜的防护性能;沉积的Ni系薄膜和Al2<-sub>O3<-sub>薄膜都具有优异的高温稳定性,能够在高温下有效防护钐钴,进而改善钐钴磁体工件在高温环境下会发生氧化导致磁性能衰减的问题。 |
公开日期 | 2016-04-27 |
申请日期 | 2014-09-30 |
状态 | 公开 |
源URL | [http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/15641] ![]() |
专题 | 宁波材料技术与工程研究所_专利成果 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 宋振纶,冒守栋,晏敏胜,等. 一种用于钐钴磁体工件表面防护的方法, 一种用于钐钴磁体工件表面防护的方法, 一种用于钐钴磁体工件表面防护的方法, 一种用于钐钴磁体工件表面防护的方法. CN105529172A. 2016-04-27. |
入库方式: OAI收割
来源:宁波材料技术与工程研究所
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