一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法
文献类型：专利
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| 作者 | 莫高明; 苗玉龙; 钟希强; 何流; 陈海俊; 裴学良; 杨建行 |
| 发表日期 | 2016-05-25 |
| 专利号 | CN105601936A |
| 著作权人 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明 |
| 英文摘要 | 本发明提供了一种清除聚二甲基硅烷(PDMS)裂解反应残留物的方法，该方法首先用可溶聚碳硅烷(PCS)的有机溶剂对反应容器进行清洗，再用氧化性酸对反应容器进行清洗，最后用去离子水或蒸馏水清洗反应容器后烘干。通过上述方法可快速、彻底清除聚二甲基硅烷(PDMS)裂解反应后的残留物，在保养反应设备的同时，减少了残留物对后续反应进程的影响，提高了反应产物性能的稳定性和可靠性。 |
| 公开日期 | 2016-05-25 |
| 申请日期 | 2016-01-12 |
| 状态 | 公开 |
| 源URL | [http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/16138]  |
| 专题 | 宁波材料技术与工程研究所_专利成果 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 莫高明,苗玉龙,钟希强,等. 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法, 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法, 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法, 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法. CN105601936A. 2016-05-25. |
入库方式： OAI收割
来源：宁波材料技术与工程研究所
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