高透光氧化硅涂层的低温制备及微观结构调整
文献类型：期刊论文
| 作者 | 柯培玲; 张栋; 陈仁德; 智理; 汪爱英 |
| 刊名 | 表面技术
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| 出版日期 | 2018 |
| 卷号 | 47期号:08页码:51-57 |
| 关键词 | 氧化硅涂层 功能装饰 透光性 力学性能 |
| 产权排序 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所海洋新材料与应用技术重点实验室;宁波中骏森驰汽车零部件股份有限公司; |
| 英文摘要 | 目的提供一种在真空装饰领域能够广泛应用的具有防护、功能性的氧化硅涂层制备方法,为具体应用中涂层工艺参数的选择提供指导。方法采用PECVD技术,通过改变O2与HMDSO配比,低温制备具有不同微结构的氧化硅涂层。采用扫描电镜观察涂层的表截面微观形貌,采用X射线衍射仪、傅里叶变换红外光谱仪、X射线光电子能谱仪、激光共聚焦拉曼光谱仪分析涂层的微结构及成分,采用紫外分光光度计表征涂层透光性,采用纳米压痕仪表征涂层的力学性能,采用接触角仪表征涂层的表面润湿性。结果所制备的氧化硅涂层表面光滑,结构致密。随反应气体中O2配比的增加,涂层结构由Si O逐渐过渡为Si O2,并掺杂有少量非晶碳,其光学透过率增加,力学性能下降,亲水性增加。当碳含量最低时,涂层具有最优异的透光性及最好的亲水性,在全可见光波段范围内透过率接近100%,与水接触角为45.38°;当碳含量最高时,涂层具有最优异的力学性能,硬度为13.5 GPa,H/E为0.11。结论采用PECVD方法能够在低温下获得光学透明、具有一定硬度、表面易清洁的氧化硅涂层,通过气体控制能够对涂层微结构及性能进行调节,从而适用于不同需求的功能装饰。 |
| 公开日期 | 2018-12-04 |
| 源URL | [http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/16519]  |
| 专题 | 2018专题 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 柯培玲,张栋,陈仁德,等. 高透光氧化硅涂层的低温制备及微观结构调整[J]. 表面技术,2018,47(08):51-57. |
| APA | 柯培玲,张栋,陈仁德,智理,&汪爱英.(2018).高透光氧化硅涂层的低温制备及微观结构调整.表面技术,47(08),51-57. |
| MLA | 柯培玲,et al."高透光氧化硅涂层的低温制备及微观结构调整".表面技术 47.08(2018):51-57. |
入库方式： OAI收割
来源：宁波材料技术与工程研究所
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