高温处理对ZnO薄膜及其忆阻性能的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 高俊华; 胡令祥; 施思齐; 曹鸿涛; 梁凌燕; 张洪亮; 诸葛飞 |
| 刊名 | 材料科学与工程学报
 |
| 出版日期 | 2018 |
| 卷号 | 36期号:04页码:564-567 |
| 关键词 | 忆阻器 高温处理 Zno 无电形成 |
| 产权排序 | 上海大学材料科学与工程学院;中国科学院宁波材料技术与工程研究所; |
| 英文摘要 | 本文研究了高温处理对ZnO薄膜及其忆阻效应的影响,发现利用经800℃高温处理后的ZnO薄膜制备的Cu/ZnO/Pt器件依然保持忆阻性能,并观察到无电形成过程的忆阻效应。研究表明,无电形成过程的原因在于高温处理后的ZnO薄膜出现了纳米级通道,使得在沉积顶电极Cu的过程中,形成天然的导电通道,使器件呈现低阻态。 |
| 公开日期 | 2018-12-04 |
| 源URL | [http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/16525]  |
| 专题 | 2018专题 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 高俊华,胡令祥,施思齐,等. 高温处理对ZnO薄膜及其忆阻性能的影响[J]. 材料科学与工程学报,2018,36(04):564-567. |
| APA | 高俊华.,胡令祥.,施思齐.,曹鸿涛.,梁凌燕.,...&诸葛飞.(2018).高温处理对ZnO薄膜及其忆阻性能的影响.材料科学与工程学报,36(04),564-567. |
| MLA | 高俊华,et al."高温处理对ZnO薄膜及其忆阻性能的影响".材料科学与工程学报 36.04(2018):564-567. |
入库方式： OAI收割
来源：宁波材料技术与工程研究所
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