Deposition and Characterization of TiZrHfV films by DC Magnetron Sputtering
文献类型：会议论文
| 作者 | X.Q. Ge, T.L. He; X.T. Pei; Y.G. Wang; Y. Wang; W. Wei; B. Zhang; Y.X. Zhang |
| 会议日期 | 2018 |
| 会议地点 | Vancouver, BC, Canada |
| 会议录 | 9th International Particle Accelerator Conference
 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/267347]  |
| 专题 | 学术会议_国际参会_JaCoW高能所参会会议_IPAC |
| 作者单位 | USTC/NSRL, Hefei, Anhui, People's Republic of China |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | X.Q. Ge, T.L. He,X.T. Pei,Y.G. Wang,et al. Deposition and Characterization of TiZrHfV films by DC Magnetron Sputtering[C]. 见:. Vancouver, BC, Canada. 2018. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。