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成像光谱仪的像面检校结构

文献类型:专利

作者1 何志平 2 方抗美 3 胡培新 4 舒嵘 5 王建宇 6 薛永祺
发表日期2008
专利号200410066228.7
著作权人上海技术物理研究所
国家中国
文献子类发明
公开日期2011-07-06
申请日期2004
语种中文
状态公开
源URL[http://202.127.1.142/handle/181331/559]  
专题上海技术物理研究所_上海技物所
推荐引用方式
GB/T 7714
1 何志平 2 方抗美 3 胡培新 4 舒嵘 5 王建宇 6 薛永祺. 成像光谱仪的像面检校结构. 200410066228.7. 2008-01-01.

入库方式: OAI收割

来源:上海技术物理研究所

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