成像光谱仪的像面检校结构
文献类型:专利
作者 | 1 何志平 2 方抗美 3 胡培新 4 舒嵘 5 王建宇 6 薛永祺 |
发表日期 | 2008 |
专利号 | 200410066228.7 |
著作权人 | 上海技术物理研究所 |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明 |
公开日期 | 2011-07-06 |
申请日期 | 2004 |
语种 | 中文 |
状态 | 公开 |
源URL | [http://202.127.1.142/handle/181331/559] ![]() |
专题 | 上海技术物理研究所_上海技物所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 1 何志平 2 方抗美 3 胡培新 4 舒嵘 5 王建宇 6 薛永祺. 成像光谱仪的像面检校结构. 200410066228.7. 2008-01-01. |
入库方式: OAI收割
来源:上海技术物理研究所
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