应用于红外成像系统实验室的避漏电保护LISN 设计
文献类型：期刊论文
| 作者 | 郑新波; 潘 鸣; 裴云天 |
| 刊名 | 红外技术
 |
| 出版日期 | 2010 |
| 卷号 | 32期号:11 |
| 公开日期 | 2011-08-30 |
| 源URL | [http://202.127.1.142/handle/181331/1940]  |
| 专题 | 上海技术物理研究所_上海技物所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 郑新波,潘 鸣,裴云天. 应用于红外成像系统实验室的避漏电保护LISN 设计[J]. 红外技术,2010,32(11). |
| APA | 郑新波,潘 鸣,&裴云天.(2010).应用于红外成像系统实验室的避漏电保护LISN 设计.红外技术,32(11). |
| MLA | 郑新波,et al."应用于红外成像系统实验室的避漏电保护LISN 设计".红外技术 32.11(2010). |
入库方式： OAI收割
来源：上海技术物理研究所
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