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Si基大面积碲镉汞分子束外延研究

文献类型:期刊论文

作者陈 路; 傅祥良; 巫 艳; 吴 俊; 王伟强; 魏青竹; 王元樟; 何 力
刊名激光与红外
出版日期2006
卷号36期号:11
公开日期2011-10-21
源URL[http://202.127.1.142/handle/181331/2482]  
专题上海技术物理研究所_上海技物所
推荐引用方式
GB/T 7714
陈 路,傅祥良,巫 艳,等. Si基大面积碲镉汞分子束外延研究[J]. 激光与红外,2006,36(11).
APA 陈 路.,傅祥良.,巫 艳.,吴 俊.,王伟强.,...&何 力.(2006).Si基大面积碲镉汞分子束外延研究.激光与红外,36(11).
MLA 陈 路,et al."Si基大面积碲镉汞分子束外延研究".激光与红外 36.11(2006).

入库方式: OAI收割

来源:上海技术物理研究所

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