在Si( 211)衬底上分子束外延CdTe的晶格应变
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王元樟; 陈路; 巫艳; 吴俊; 于梅芳; 方维政; 何力 |
| 刊名 | 激光与红外
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| 出版日期 | 2005 |
| 卷号 | 35期号:11 |
| 公开日期 | 2011-11-08 |
| 源URL | [http://202.127.1.142/handle/181331/2960]  |
| 专题 | 上海技术物理研究所_上海技物所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王元樟,陈路,巫艳,等. 在Si( 211)衬底上分子束外延CdTe的晶格应变[J]. 激光与红外,2005,35(11). |
| APA | 王元樟.,陈路.,巫艳.,吴俊.,于梅芳.,...&何力.(2005).在Si( 211)衬底上分子束外延CdTe的晶格应变.激光与红外,35(11). |
| MLA | 王元樟,et al."在Si( 211)衬底上分子束外延CdTe的晶格应变".激光与红外 35.11(2005). |
入库方式： OAI收割
来源：上海技术物理研究所
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