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离子注入型碲镉汞红外焦平面的光电p-n结修饰方法

文献类型:专利

作者1 叶振华 2黄建3 祝海彬4 尹文婷5林春 6 胡晓宁 7 丁瑞军 8 何力
发表日期2011
专利号200910198960.2
著作权人上海技术物理研究所
国家中国
文献子类发明
公开日期2011-12-15
申请日期2009
语种中文
状态公开
源URL[http://202.127.1.142/handle/181331/3605]  
专题上海技术物理研究所_上海技物所
推荐引用方式
GB/T 7714
1 叶振华 2黄建3 祝海彬4 尹文婷5林春 6 胡晓宁 7 丁瑞军 8 何力. 离子注入型碲镉汞红外焦平面的光电p-n结修饰方法. 200910198960.2. 2011-01-01.

入库方式: OAI收割

来源:上海技术物理研究所

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