多腔结构阶跃式红外集成滤光片的研究
文献类型：学位论文
| 作者 | 段微波 |
| 答辩日期 | 2008-12-26 |
| 文献子类 | 博士 |
| 授予单位 | 中国科学院研究生院 |
| 导师 | 严义埙 |
| 关键词 | 光谱阶跃式集成滤光片 多腔结构 光学特性 真空镀膜 掩膜刻蚀 |
| 学位专业 | 物理电子学 |
| 英文摘要 | 光谱阶跃式集成滤光片作为一种精细分色元件，在多光谱航天遥感仪器中扮演着重要的作用。本文紧密围绕项目对集成滤光片的技术要求，结合集成滤光片国内外的发展现状，展开了对多腔结构光谱阶跃式红外集成滤光片的研究。提出了在单个基片上，通过改变带通滤光片谐振腔厚度的方法，实现滤光片光谱通道的选择，达到多通道光谱的集成。分析了小角度锥光线入射的情况下，带通滤光片光谱特性的变化，指出了采多谐振腔结构的带通滤光片与单腔F-P结构的带通滤光片相比，锥光线入射对其光谱影响更小。在短波红外区域，对Si和SiO2薄膜材料作了详细的研究。选择这两种材料，采用双腔结构合理设计膜系，在1.1-1.5mm区域完成了8通道光谱阶跃式红外集成滤光片的设计。集成滤光片的制备采用传统真空镀膜工艺配合半导体掩膜刻蚀工艺来完成，真空镀膜完成基本膜系的制备，组合掩膜配合离子束刻蚀形成有规律的谐振腔光学厚度排布，达到精细分光的目的。对集成滤光片制备工艺深入研究后，制备出1.1-1.5mm双腔结构8通道光谱阶跃式短波红外集成滤光片，其单元滤光片几何线宽为2mm，透过率高于75%，光谱定位精度优于0.9%。实验分析表明，影响集成滤光片性能的主要因素为多次成膜工艺的稳定性及离子束刻蚀的控制精度。 |
| 学科主题 | 红外探测材料与器件 |
| 公开日期 | 2012-08-22 |
| 源URL | [http://202.127.1.142/handle/181331/4946]  |
| 专题 | 上海技术物理研究所_上海技物所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 段微波. 多腔结构阶跃式红外集成滤光片的研究[D]. 中国科学院研究生院. 2008. |
入库方式： OAI收割
来源：上海技术物理研究所
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