锗（Ge）光学薄膜在不同沉积温度下的聚集密度研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 罗海瀚; 刘定权; 尹欣 |
| 刊名 | 光电工程
 |
| 出版日期 | 2011 |
| 卷号 | 40期号:12 |
| 学科主题 | 红外探测材料与器件 |
| 公开日期 | 2012-10-23 |
| 源URL | [http://202.127.1.142/handle/181331/5645]  |
| 专题 | 上海技术物理研究所_上海技物所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 罗海瀚,刘定权,尹欣. 锗（Ge）光学薄膜在不同沉积温度下的聚集密度研究[J]. 光电工程,2011,40(12). |
| APA | 罗海瀚,刘定权,&尹欣.(2011).锗（Ge）光学薄膜在不同沉积温度下的聚集密度研究.光电工程,40(12). |
| MLA | 罗海瀚,et al."锗（Ge）光学薄膜在不同沉积温度下的聚集密度研究".光电工程 40.12(2011). |
入库方式： OAI收割
来源：上海技术物理研究所
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