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一种低温生长变组分镓砷锑薄膜的液相外延方法

文献类型:专利

作者1 王洋 2 胡淑红 3 吕英飞4戴宁
发表日期2015-06-02
专利号201510295832.5
著作权人中国科学院上海技术物理研究所
国家中国
文献子类发明
公开日期2017-06-27
状态授权
源URL[http://202.127.2.71:8080/handle/181331/11667]  
专题上海技术物理研究所_上海技物所
作者单位中国科学院上海技术物理研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
1 王洋 2 胡淑红 3 吕英飞4戴宁. 一种低温生长变组分镓砷锑薄膜的液相外延方法. 201510295832.5. 2015-06-02.

入库方式: OAI收割

来源:上海技术物理研究所

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