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基于CMOS工艺的横向多晶硅p~+p~-n~+结红外微测辐射热计

文献类型:期刊论文

作者陈二柱; 梁平治
刊名红外与毫米波学报
出版日期2005
期号3
公开日期2011-11-08
源URL[http://202.127.1.142/handle/181331/2989]  
专题上海技术物理研究所_研究生
推荐引用方式
GB/T 7714
陈二柱,梁平治. 基于CMOS工艺的横向多晶硅p~+p~-n~+结红外微测辐射热计[J]. 红外与毫米波学报,2005(3).
APA 陈二柱,&梁平治.(2005).基于CMOS工艺的横向多晶硅p~+p~-n~+结红外微测辐射热计.红外与毫米波学报(3).
MLA 陈二柱,et al."基于CMOS工艺的横向多晶硅p~+p~-n~+结红外微测辐射热计".红外与毫米波学报 .3(2005).

入库方式: OAI收割

来源:上海技术物理研究所

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