不同衬底和CdCl2 退火对磁控溅射CdS薄膜性能的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张传军; 邬云骅; 曹鸿; 高艳卿; 赵守仁; 王善力; 褚君浩 |
| 刊名 | 物理学报
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| 出版日期 | 2013 |
| 卷号 | 62期号:15 |
| 关键词 | Cds薄膜 磁控溅射 退火再结晶 带尾态 |
| 英文摘要 | 在科宁7059玻璃,FTO,ITO,AZO四种衬底上磁控溅射CdS薄膜,并在CdCl2+干燥空气380C退火,分别研究了不同衬底和退火工艺对CdS薄膜形貌、结构和光学性能的影响.扫描电子显微镜形貌表明:不同衬底原位溅射CdS薄膜的形貌不同,退火后相应CdS薄膜的晶粒度和表面粗糙度明显增大.XRD衍射图谱表明:不同衬底原位溅射和退火CdS薄膜均为六角相和立方相的混相结构,退火前后科宁7059玻璃,FTO,AZO衬底上CdS薄膜有H(002)/C(111)最强衍射峰,ITO衬底原位溅射CdS薄膜没有明显的最强衍射峰,退火后出现H(002)/(111)最强衍射峰.紫外-可见分光光度计分析表明:AZO,FTO,ITO,科宁7059玻璃衬底CdS薄膜的可见光平均透过率依次减小,退火后相应衬底CdS薄膜的可见光平均透过率增大,光学吸收系数降低;退火显著增大了不同衬底CdS薄膜的光学带隙.分析得出:上述结果是由于不同衬底类型和退火工艺对CdS多晶薄膜的形貌、结构和带尾态掺杂浓度改变的结果. |
| 学科主题 | 红外基础研究 |
| 公开日期 | 2014-11-10 |
| 源URL | [http://202.127.1.142/handle/181331/7690]  |
| 专题 | 上海技术物理研究所_上海技物所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张传军,邬云骅,曹鸿,等. 不同衬底和CdCl2 退火对磁控溅射CdS薄膜性能的影响[J]. 物理学报,2013,62(15). |
| APA | 张传军.,邬云骅.,曹鸿.,高艳卿.,赵守仁.,...&褚君浩.(2013).不同衬底和CdCl2 退火对磁控溅射CdS薄膜性能的影响.物理学报,62(15). |
| MLA | 张传军,et al."不同衬底和CdCl2 退火对磁控溅射CdS薄膜性能的影响".物理学报 62.15(2013). |
入库方式： OAI收割
来源：上海技术物理研究所
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