QUANTITATIVE STUDY ON THE PHOTOEXCITATION PROCESS OF SiF4 AT 49-120nm
文献类型：期刊论文
| 作者 | Masako Suto ; Xiuyan Wang ; L.C.Lee |
| 刊名 | j.chem.phys
 |
| 出版日期 | 1987 |
| 卷号 | 3页码:- |
| 原文出处 | true |
| 公开日期 | 2010-11-30 ; 2011-07-06 |
| 源URL | [http://159.226.238.44/handle/321008/96417]  |
| 专题 | 大连化学物理研究所_中国科学院大连化学物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Masako Suto,Xiuyan Wang,L.C.Lee. QUANTITATIVE STUDY ON THE PHOTOEXCITATION PROCESS OF SiF4 AT 49-120nm[J]. j.chem.phys,1987,3:-. |
| APA | Masako Suto,Xiuyan Wang,&L.C.Lee.(1987).QUANTITATIVE STUDY ON THE PHOTOEXCITATION PROCESS OF SiF4 AT 49-120nm.j.chem.phys,3,-. |
| MLA | Masako Suto,et al."QUANTITATIVE STUDY ON THE PHOTOEXCITATION PROCESS OF SiF4 AT 49-120nm".j.chem.phys 3(1987):-. |
入库方式： OAI收割
来源：大连化学物理研究所
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