Structural and optical properties of nitrogen-incorporated HfO2 gate dielectrics deposited by reactive sputtering
文献类型：期刊论文
| 作者 | G. He ; Q. Fang ; G.H. Li ; J.P. Zhang ; L.D. Zhang |
| 刊名 | applied surface science
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| 出版日期 | 2007 |
| 期号 | 253 |
| 合作状况 | 其它 |
| 学科主题 | 纳米材料与技术 |
| 收录类别 | SCI |
| 公开日期 | 2010-07-16 |
| 源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn/handle/334002/3642]  |
| 专题 | 合肥物质科学研究院_中科院固体物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | G. He,Q. Fang,G.H. Li,et al. Structural and optical properties of nitrogen-incorporated HfO2 gate dielectrics deposited by reactive sputtering[J]. applied surface science,2007(253). |
| APA | G. He,Q. Fang,G.H. Li,J.P. Zhang,&L.D. Zhang.(2007).Structural and optical properties of nitrogen-incorporated HfO2 gate dielectrics deposited by reactive sputtering.applied surface science(253). |
| MLA | G. He,et al."Structural and optical properties of nitrogen-incorporated HfO2 gate dielectrics deposited by reactive sputtering".applied surface science .253(2007). |
入库方式： OAI收割
来源：合肥物质科学研究院
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