Spectroscopic ellipsometry characterization of ZrO2 thin films by nitrogen-assisted reactive magnetron sputtering
文献类型：期刊论文
| 作者 | L.Q. Zhu ; Q. Fang ; G. He ; M. Liu ; X.X. Xu ; L.D. Zhang |
| 刊名 | materials science in semiconductor processing
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| 出版日期 | 2006 |
| 期号 | 9 |
| 合作状况 | 其它 |
| 学科主题 | 纳米材料与技术 |
| 收录类别 | SCI |
| 公开日期 | 2010-07-23 |
| 源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn/handle/334002/3780]  |
| 专题 | 合肥物质科学研究院_中科院固体物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | L.Q. Zhu,Q. Fang,G. He,et al. Spectroscopic ellipsometry characterization of ZrO2 thin films by nitrogen-assisted reactive magnetron sputtering[J]. materials science in semiconductor processing,2006(9). |
| APA | L.Q. Zhu,Q. Fang,G. He,M. Liu,X.X. Xu,&L.D. Zhang.(2006).Spectroscopic ellipsometry characterization of ZrO2 thin films by nitrogen-assisted reactive magnetron sputtering.materials science in semiconductor processing(9). |
| MLA | L.Q. Zhu,et al."Spectroscopic ellipsometry characterization of ZrO2 thin films by nitrogen-assisted reactive magnetron sputtering".materials science in semiconductor processing .9(2006). |
入库方式： OAI收割
来源：合肥物质科学研究院
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