Effect of postdeposition annealing on the thermal stability and structural characteristics of sputtered HfO2 films on Si (100)
文献类型：期刊论文
| 作者 | G.He ; M.Liu ; L.Q. Zhu ; M.Chang ; Q.Fang ; L.D. Zhang |
| 刊名 | surface science
 |
| 出版日期 | 2005 |
| 期号 | 576 |
| 合作状况 | 其它 |
| 学科主题 | 纳米材料与技术 |
| 收录类别 | SCI |
| 公开日期 | 2010-08-17 |
| 源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn/handle/334002/3859]  |
| 专题 | 合肥物质科学研究院_中科院固体物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | G.He,M.Liu,L.Q. Zhu,et al. Effect of postdeposition annealing on the thermal stability and structural characteristics of sputtered HfO2 films on Si (100)[J]. surface science,2005(576). |
| APA | G.He,M.Liu,L.Q. Zhu,M.Chang,Q.Fang,&L.D. Zhang.(2005).Effect of postdeposition annealing on the thermal stability and structural characteristics of sputtered HfO2 films on Si (100).surface science(576). |
| MLA | G.He,et al."Effect of postdeposition annealing on the thermal stability and structural characteristics of sputtered HfO2 films on Si (100)".surface science .576(2005). |
入库方式： OAI收割
来源：合肥物质科学研究院
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