聚变装置第一壁真空等离子喷涂B4C涂层研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 陈俊凌
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| 刊名 | 真空与低温
 |
| 出版日期 | 1999 |
| 期号 | 3 |
| 合作状况 | 其它 |
| 学科主题 | 聚变装置系统 |
| 收录类别 | 其他 |
| 公开日期 | 2009-12-02 |
| 源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn/handle/334002/2705]  |
| 专题 | 合肥物质科学研究院_中科院等离子体物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈俊凌. 聚变装置第一壁真空等离子喷涂B4C涂层研究[J]. 真空与低温,1999(3). |
| APA | 陈俊凌.(1999).聚变装置第一壁真空等离子喷涂B4C涂层研究.真空与低温(3). |
| MLA | 陈俊凌."聚变装置第一壁真空等离子喷涂B4C涂层研究".真空与低温 .3(1999). |
入库方式： OAI收割
来源：合肥物质科学研究院
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