Characteristics of high Al content AlGaN grown by pulsed atomic layer epitaxy
文献类型:期刊论文
作者 | Jin P![]() |
刊名 | applied surface science
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出版日期 | 2011 |
卷号 | 257期号:20页码:8718-8721 |
关键词 | Photoluminescence Raman scattering Pulsed atomic layer epitaxy AlGaN alloys |
学科主题 | 半导体材料 |
收录类别 | SCI |
语种 | 英语 |
公开日期 | 2011-07-07 ; 2011-07-15 |
源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/21396] ![]() |
专题 | 半导体研究所_半导体材料科学中心 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Jin P. Characteristics of high Al content AlGaN grown by pulsed atomic layer epitaxy[J]. applied surface science,2011,257(20):8718-8721. |
APA | Jin P.(2011).Characteristics of high Al content AlGaN grown by pulsed atomic layer epitaxy.applied surface science,257(20),8718-8721. |
MLA | Jin P."Characteristics of high Al content AlGaN grown by pulsed atomic layer epitaxy".applied surface science 257.20(2011):8718-8721. |
入库方式: OAI收割
来源:半导体研究所
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