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Characteristics of high Al content AlGaN grown by pulsed atomic layer epitaxy

文献类型:期刊论文

作者Jin P
刊名applied surface science
出版日期2011
卷号257期号:20页码:8718-8721
关键词Photoluminescence Raman scattering Pulsed atomic layer epitaxy AlGaN alloys
学科主题半导体材料
收录类别SCI
语种英语
公开日期2011-07-07 ; 2011-07-15
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/21396]  
专题半导体研究所_半导体材料科学中心
推荐引用方式
GB/T 7714
Jin P. Characteristics of high Al content AlGaN grown by pulsed atomic layer epitaxy[J]. applied surface science,2011,257(20):8718-8721.
APA Jin P.(2011).Characteristics of high Al content AlGaN grown by pulsed atomic layer epitaxy.applied surface science,257(20),8718-8721.
MLA Jin P."Characteristics of high Al content AlGaN grown by pulsed atomic layer epitaxy".applied surface science 257.20(2011):8718-8721.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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