The ICP etching technology of 3C-SiC films
文献类型：会议论文
| 作者 | Ning J (Ning Jin) ; Gong QC (Gong Quancheng) ; Sun GS (Sun Guosheng) ; Liu ZL (Liu Zhongli) |
| 出版日期 | 2006 |
| 会议名称 | international mems conference 2006 |
| 会议日期 | may 09-12, 2006 |
| 会议地点 | singapore, singapore |
| 收录类别 | CPCI（ISTP） |
| 会议录 | international mems conference 2006, 34: 511-515 2006
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| 学科主题 | 微电子学 |
| 语种 | 英语 |
| 源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/21414]  |
| 专题 | 半导体研究所_半导体集成技术工程研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Ning J ,Gong QC ,Sun GS ,et al. The ICP etching technology of 3C-SiC films[C]. 见:international mems conference 2006. singapore, singapore. may 09-12, 2006. |
入库方式： OAI收割
来源：半导体研究所
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