离子束流密度测量装置
文献类型：专利
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| 作者 | 张大伟 ; 范瑞英 ; 方明 ; 邵建达 ; 范正修 ; 张东平 ; 尚淑珍 ; 范树海 |
| 发表日期 | 2006-04-05 |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利号 | ZL200410017709.9 |
| 专利类型 | 发明 |
| 权利人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 中文摘要 | 一种离子束流密度测量装置，其特征在于该装置的构成是：一紫铜圆盘，该圆盘的中心位置具有一连成一体的紫铜探测体，一底座，该底座的中轴位置有一通孔，供所述的探测体插设形成离子接收器；一可调直流电压，其负极通过一导线与所述的圆盘相连，其正极经一电流表接地。本发明具有结构简单、灵活、实用和操作方便的特点。 |
| 公开日期 | 2011-07-14 ; 2011-07-15 |
| 申请日期 | 2004-04-15 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | CN200410017709.9 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/10134]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张大伟,范瑞英,方明,等. 离子束流密度测量装置, 离子束流密度测量装置. ZL200410017709.9. 2006-04-05. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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