提高光学薄膜激光损伤阈值的镀膜方法
文献类型：专利
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| 作者 | 张东平 ; 范正修 ; 邵建达 ; 张大伟 ; 范树海 ; 齐红基 ; 赵元安 |
| 发表日期 | 2007-02-07 |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利号 | ZL200410066749.2 |
| 专利类型 | 发明 |
| 权利人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 中文摘要 | 一种提高光学薄膜激光损伤阈值的镀膜方法，该方法包括下列步骤：首先将基片放入石油醚中超声清洗，或放入去离子水中超声清洗，清洗完毕取出后用高纯的氮气吹干；然后将基片放入真空室内进行镀膜；最后，用氧等离子体对沉积的薄膜进行后处理。本发明方法可大幅度提高光学薄膜的激光损伤阈值，而且具有效率高、速度快、操作简单易行和费用较低的特点。 |
| 公开日期 | 2011-07-14 ; 2011-07-15 |
| 申请日期 | 2004-09-28 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | CN200410066749.2 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/10140]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张东平,范正修,邵建达,等. 提高光学薄膜激光损伤阈值的镀膜方法, 提高光学薄膜激光损伤阈值的镀膜方法. ZL200410066749.2. 2007-02-07. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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