电子束蒸发镀膜膜厚均匀性的修正方法
文献类型：专利
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| 作者 | 毕军 ; 易葵 ; 黄建兵 ; 王素梅 ; 傅小勇 ; 沈健 ; 朱美萍 ; 范正修 |
| 发表日期 | 2008-01-23 |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利号 | ZL200510027684.5 |
| 专利类型 | 发明 |
| 权利人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 中文摘要 | 一种电子束蒸发镀膜膜厚均匀性的修正方法，即修正挡板的设计方法，包括下列步骤：第一步：根据真空室的实际配置情况，写出r，cosθ，cosφ的表达式；第二步：绘制理论膜厚分布曲线；第三步：实验确定实际膜料的蒸发特性n；第四步：确定修正挡板的位置；第五步：设计修正挡板的形状。经实验表明：本发明方法可以快速准确地设计出修正挡板，可大大提高光学薄膜厚度均匀性。 |
| 公开日期 | 2011-07-14 ; 2011-07-15 |
| 申请日期 | 2005-07-12 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | CN200510027684.5 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/10158]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 毕军,易葵,黄建兵,等. 电子束蒸发镀膜膜厚均匀性的修正方法, 电子束蒸发镀膜膜厚均匀性的修正方法. ZL200510027684.5. 2008-01-23. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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