一体式二维转动微弹性调整架
文献类型：专利
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| 作者 | 庞向阳 ; 王聪瑜 ; 汤更秀 ; 刘志刚 ; 王国兴 |
| 发表日期 | 2003-04-23 |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利号 | ZL02217490.7 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 权利人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 中文摘要 | 一种一体式两维转动微弹性调整架，包括基座与弹性层之间有作为固定支点的细颈部连为一体。在弹性层相对于基座的内表面上有两组结构相同相互垂直置放的微弹性小槽，有两个调整螺钉从基座上一条对角线上穿过基座顶在弹性层上。通过分别调节两个调整螺钉，可以使弹性层绕细颈部相对于基座作左右或上下的转动。因为基座与调节部分的弹性层为一体化结构，减小了静态飘移，增加了调整架的稳定性。加工简单、装配方便、成本低，适宜批量生产。尤其适用于精密光学和精密机械的调整机构中。 |
| 公开日期 | 2011-07-14 ; 2011-07-15 |
| 申请日期 | 2002-05-17 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | CN02217490.7 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/9058]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_高功率激光物理国家实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 庞向阳,王聪瑜,汤更秀,等. 一体式二维转动微弹性调整架, 一体式二维转动微弹性调整架. ZL02217490.7. 2003-04-23. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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