用于环行抛光机的校正板
文献类型：专利
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| 作者 | 樊全堂 ; 朱健强 |
| 发表日期 | 2007-12-19 |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利号 | ZL200620048585.5 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 权利人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 中文摘要 | 一种用于环行抛光机的校正板，该校正板由上盘和下盘以及处于上盘和下盘之间的空腔内的多个位移调节件固定在一起而构成，在所述的上盘上还结合一中心具有凸形轴套的轴套板，该轴套板的凸起中心位置通过推力轴承套设一调压轴，该调压轴固定在一可在桁架上移动的溜板上。经试用表明本实用新型校正板使工件的被抛光表面平整化过程更容易控制，可有效控制工件面形精度并提高抛光效率。 |
| 公开日期 | 2011-07-14 ; 2011-07-15 |
| 申请日期 | 2006-12-05 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | CN200620048585.5 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/9190]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_高功率激光物理国家实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 樊全堂,朱健强. 用于环行抛光机的校正板, 用于环行抛光机的校正板. ZL200620048585.5. 2007-12-19. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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