一种制备高比表面积超薄钯膜的化学镀方法
文献类型：专利
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| 作者 | 徐恒泳 ; 曾高峰 ; 史蕾 ; 安德里斯歌德巴赫 |
| 发表日期 | 2011-04-13 |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利号 | CN200910169511.5 |
| 专利类型 | 发明 |
| 关键词 | 物理化学 |
| 权利人 | 中国科学院大连化学物理研究所 |
| 中文摘要 | 一种制备钯膜或钯银合金膜的化学镀方法，利用多孔载体将钯盐络合物镀液或钯银氨盐络合物镀液分隔成两部分，其中一侧的镀液中加入还原剂，还原剂经由孔道和缺陷与镀液中的钯盐络合物或钯银氨盐络合物并发生自催化反应，在接触钯盐络合物或钯银氨盐络合物的多孔载体一侧形成钯膜。利用本发明能够不经过任何额外复杂处理就可以获得高比表面积，增强膜的透氢性能和表面活性；通过本方法所制备的钯膜膜层超薄，能够减少资源浪费；同时，本发明工艺简洁，设备简单，节省经济投入。 |
| 是否PCT专利 | 是 |
| 学科主题 | 物理化学 |
| 公开日期 | 2011-04-13 ; 2011-07-11 |
| 申请日期 | 2009-09-08 |
| 语种 | 中文 |
| 资助信息 | 大连化物所 |
| 专利证书号 | 带填写 |
| 专利申请号 | CN200910169511.5 |
| 专利代理 | 周长兴 |
| 源URL | [http://159.226.238.44/handle/321008/106949]  |
| 专题 | 大连化学物理研究所_中国科学院大连化学物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 徐恒泳,曾高峰,史蕾,等. 一种制备高比表面积超薄钯膜的化学镀方法, 一种制备高比表面积超薄钯膜的化学镀方法. CN200910169511.5. 2011-04-13. |
入库方式： OAI收割
来源：大连化学物理研究所
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