一种修补钯及钯合金复合膜缺陷的方法
文献类型:专利
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作者 | 徐恒泳 ; 袁立祥 ; 安德列斯哥德巴赫 |
发表日期 | 2009-10-21 |
专利国别 | 中国 |
专利号 | CN200810104368.7 |
专利类型 | 发明 |
关键词 | 物理化学 |
权利人 | 中国科学院大连化学物理研究所 |
中文摘要 | 一种修补钯及钯合金复合膜缺陷的方法,通过将一种或多种有机物添加在钯化学镀液中,使得有机物只吸附在钯及钯合金复合膜表面,而不能进入缺陷内部。所述有机物为能够通过后处理过程去除的物质,或能够通过加热完全分解的物质。由于所述有机物吸附在钯及钯合金复合膜表面而使表面被覆盖,从而使金属的自催化沉积反应不会在钯及钯合金复合膜表面发生;另外由于所述有机物不能够进入缺陷内部,因而无法阻止金属的自催化沉积而使得缺陷被金属沉积修补。通过本发明修补后的钯及钯合金复合膜,在其致密性加强的同时,金属膜层的厚度不会增加,因此既不会因为大量贵金属钯的使用而增加应用成本,同时也不会减少氢气的渗透量。 |
是否PCT专利 | 是 |
学科主题 | 物理化学 |
公开日期 | 2009-10-21 ; 2011-07-11 |
申请日期 | 2008-04-18 |
语种 | 中文 |
资助信息 | 大连化物所 |
专利证书号 | 带填写 |
专利申请号 | CN200810104368.7 |
专利代理 | 周长兴 |
源URL | [http://159.226.238.44/handle/321008/107517] ![]() |
专题 | 大连化学物理研究所_中国科学院大连化学物理研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 徐恒泳,袁立祥,安德列斯哥德巴赫. 一种修补钯及钯合金复合膜缺陷的方法, 一种修补钯及钯合金复合膜缺陷的方法. CN200810104368.7. 2009-10-21. |
入库方式: OAI收割
来源:大连化学物理研究所
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