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磁控溅射法制备Si1-xGex/B多层薄膜及其热电性能研究

文献类型:期刊论文

作者杜鑫1,2; 苗蕾1,3; 刘呈燕1,3; 王潇漾1,3
刊名新能源进展
出版日期2016
期号5页码:345-350
关键词热电材料 硅锗薄膜 纳米结构 热电性能
其他题名Thermoelectric Property of Si1-xGex/B Multilayer Thin Film Prepared by Magnetron Sputtering
文献子类期刊
英文摘要Unique structure (SiGe/B) based multilayer film prepared by magnetron sputtering was designed with purposes of improving electrical conductivity and Seebeck coefficient, and reducing thermal conductivity. The multilayer film contains 5 periods and each of
语种中文
资助机构国家自然科学基金项目(51572049,51562005);广东省科技计划项目(2013B050800006);中国科学院BIC对外合作项目(182344KYSB20130006)
源URL[http://ir.giec.ac.cn/handle/344007/16076]  
专题中国科学院广州能源研究所
作者单位1.中国科学院广州能源研究所,中国科学院可再生能源重点实验室,广州 510640
2.中国科学院大学,北京100049
3.桂林电子科技大学,广西桂林541004
推荐引用方式
GB/T 7714
杜鑫,苗蕾,刘呈燕,等. 磁控溅射法制备Si1-xGex/B多层薄膜及其热电性能研究[J]. 新能源进展,2016(5):345-350.
APA 杜鑫,苗蕾,刘呈燕,&王潇漾.(2016).磁控溅射法制备Si1-xGex/B多层薄膜及其热电性能研究.新能源进展(5),345-350.
MLA 杜鑫,et al."磁控溅射法制备Si1-xGex/B多层薄膜及其热电性能研究".新能源进展 .5(2016):345-350.

入库方式: OAI收割

来源:广州能源研究所

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