多弧离子镀与磁控溅射联用镀制TiN/SiO2复合装饰薄膜的研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 朱元义; 邓佩珊; 朱常锋; 朱文; 史继富4
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| 刊名 | 真空
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| 出版日期 | 2015 |
| 期号 | 1页码:45-47 |
| 关键词 | 多弧离子镀 磁控溅射 氮化钛 氧化硅 |
| 其他题名 | Study of TiN/SiO2 composite films prepared by the combined method of multi-arc ion plating and magnetron sputtering |
| 英文摘要 | In this paper,we combined the advantages of the two methods which are multi-arc ion plating and magnetron sputtering to prepare TiN/SiO2 composite films. The SEM results show that the TiN/SiO2 composite film is more compact and smooth than the TiN film, a |
| 资助机构 | 省部产学研结合项目（20108090400109）;广东省中国科学院全面战略合作项目（20118090300044）;肇庆特色产业项目（磁控溅射与离子镀联用大型连续式镀膜技术的研发） |
| 源URL | [http://ir.giec.ac.cn/handle/344007/16260]  |
| 专题 | 中国科学院广州能源研究所 太阳能系统应用实验室 |
| 作者单位 | 1.佛山市双石钢业有限公司,广东佛山528251 2.广州市番禺双石钛金厂,广东广州511430 3.肇庆市双石金属实业有限公司,广东肇庆526238 4.中国科学院广州能源研究所,广东广州510640 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 朱元义,邓佩珊,朱常锋,等. 多弧离子镀与磁控溅射联用镀制TiN/SiO2复合装饰薄膜的研究[J]. 真空,2015(1):45-47. |
| APA | 朱元义,邓佩珊,朱常锋,朱文,&史继富.(2015).多弧离子镀与磁控溅射联用镀制TiN/SiO2复合装饰薄膜的研究.真空(1),45-47. |
| MLA | 朱元义,et al."多弧离子镀与磁控溅射联用镀制TiN/SiO2复合装饰薄膜的研究".真空 .1(2015):45-47. |
入库方式： OAI收割
来源：广州能源研究所
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