N2、O2对磁控溅射TiOyNx选择性吸收薄膜光学性质的影响
文献类型：会议论文
| 作者 | 陈达 ; 汪保卫 ; 沈辉 |
| 出版日期 | 2003-09-01 |
| 会议名称 | 全国第三届纳米材料和技术应用会议 |
| 会议日期 | 2003-09-01 |
| 会议地点 | 南京 |
| 关键词 | 氮氧化钛 吸收率 发射率 光谱选择性吸收薄膜 光学性质 太阳能 |
| 中文摘要 | 光谱选择性吸收薄膜的制备是太阳能集热器高效吸收太阳能的关键技术.本文就磁控溅射制备氮化钛膜中N<,2>、O<,2>流量变化对溅射过程及膜的性能的影响进行了讨论. |
| 会议主办者 | 中国材料研究学会 |
| 会议录 | 全国第三届纳米材料和技术应用会议论文集
 |
| 会议录出版者 | 南京 |
| 会议录出版地 | 南京 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.giec.ac.cn/handle/344007/7886]  |
| 专题 | 中国科学院广州能源研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈达,汪保卫,沈辉. N2、O2对磁控溅射TiOyNx选择性吸收薄膜光学性质的影响[C]. 见:全国第三届纳米材料和技术应用会议. 南京. 2003-09-01. |
入库方式： OAI收割
来源：广州能源研究所
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