多晶硅薄膜的制备与表征
文献类型：会议论文
| 作者 | 胡芸菲 ; 沈辉 ; 梁宗存 ; 刘正义 |
| 出版日期 | 2002-10-23 |
| 会议名称 | 中国第七届光伏会议 |
| 会议日期 | 2002-10-23 |
| 会议地点 | 杭州 |
| 关键词 | 多晶硅薄膜 化学气相沉积 颗粒硅带 外延生长 薄膜制备 形貌结构 |
| 中文摘要 | 以多晶硅片为衬底,在快热化学气相沉积(RTCVD)设备上,通过外延生长的方式制得多晶硅薄膜,并利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)等测试手段对薄膜的形貌结构及成分进行分析. |
| 会议主办者 | 中国太阳能学会 |
| 会议录 | 中国第七届光伏会议论文集
 |
| 会议录出版者 | 杭州 |
| 会议录出版地 | 杭州 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.giec.ac.cn/handle/344007/7940]  |
| 专题 | 中国科学院广州能源研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 胡芸菲,沈辉,梁宗存,等. 多晶硅薄膜的制备与表征[C]. 见:中国第七届光伏会议. 杭州. 2002-10-23. |
入库方式： OAI收割
来源：广州能源研究所
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