一种超薄钯-陶瓷复合膜的制备方法
文献类型:专利
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作者 | 付桂芝 ; 张朋 ; 吴迪镛 ; 曹兰英 ; 王淑娟 ; 袁权 |
发表日期 | 1997-11-12 |
专利国别 | 中国 |
专利号 | CN96115291.5 |
专利类型 | 发明 |
关键词 | 物理化学 |
权利人 | 中国科学院大连化学物理研究所 |
中文摘要 | 一种超薄Pd-陶瓷复合膜是采用化学镀方法进行,其特征是在进行第一次化学镀后进行抽空溶胶堵孔膜修饰处理,即将膜管内抽真空至-0.1MPa以下,膜管外浸在氧化铝溶胶中,使膜表面遣留的大孔逐渐缩小,至膜透量达到10~50ml/min·cm2·atm,完成膜修饰,再重复进行第二次化学镀。抽空溶胶堵孔膜修饰处理所用的氧化铝溶胶是将铝箔与AlCl3溶液于80—90℃下反应10—25小时制得浓度为0.8~2.5mol/l的铝溶胶。该制膜方法有效地抑制了镀膜过程中针孔的出现,改变了以前的制膜工艺过程,扩大了作为陶瓷支撑体的孔径范围,制备出的Pd膜厚度薄、透量大、强度好。既节省了费用,又扩大了应用范围。 |
是否PCT专利 | 是 |
学科主题 | 物理化学 |
公开日期 | 1997-11-12 ; 2011-07-11 |
申请日期 | 1996-05-08 |
语种 | 中文 |
资助信息 | 待填写 |
专利证书号 | 带填写 |
专利申请号 | CN96115291.5 |
专利代理 | 汪惠民 |
源URL | [http://159.226.238.44/handle/321008/110743] ![]() |
专题 | 大连化学物理研究所_中国科学院大连化学物理研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 付桂芝,张朋,吴迪镛,等. 一种超薄钯-陶瓷复合膜的制备方法, 一种超薄钯-陶瓷复合膜的制备方法. CN96115291.5. 1997-11-12. |
入库方式: OAI收割
来源:大连化学物理研究所
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