惰性气体脱氢、氧净化剂
文献类型:专利
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作者 | 陈怡萱 ; 唐学渊 ; 刘蕙菁 ; 李文钊 ; 张俊香 ; 洪祖培 ; 于丰云 |
发表日期 | 1986-09-17 |
专利国别 | 中国 |
专利号 | CN85102708 |
专利类型 | 发明 |
关键词 | 物理化学 |
权利人 | 中国科学院大连化学物理研究所 |
中文摘要 | 惰性气体脱氢、氧净化剂是由钯、氧化铜担载在二氧化钛上而制成的.利用本净化剂可在100-180℃条件下,使惰性气体流中成计量比的H2和O2化合除去,同时将余量H2或O2收除去,残余杂质H2<0.4ppmO2<0.5ppm.本净化剂比同类型的脱氢脱氧净化剂的性能好,使用温度明显降低,且使用前不需要预活化,使用过程中不需要专门再生处理,是惰性气体深度脱氢、脱氧较理想的一种净化剂. |
是否PCT专利 | 是 |
学科主题 | 物理化学 |
公开日期 | 1986-09-17 ; 2011-07-11 |
申请日期 | 1985-04-01 |
语种 | 中文 |
资助信息 | 待填写 |
专利证书号 | 带填写 |
专利申请号 | CN85102708 |
专利代理 | 汪惠民 |
源URL | [http://159.226.238.44/handle/321008/111131] ![]() |
专题 | 大连化学物理研究所_中国科学院大连化学物理研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈怡萱,唐学渊,刘蕙菁,等. 惰性气体脱氢、氧净化剂, 惰性气体脱氢、氧净化剂. CN85102708. 1986-09-17. |
入库方式: OAI收割
来源:大连化学物理研究所
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