中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
The influence of thermal annealing process after GaN cap layer growth on structural and optical properties of InGaN/InGaN multi-quantum wells

文献类型:期刊论文

作者Yang, J.; Liu, S.T.; Du, G.T.; Zhang, Y.T.; Li, M.; Wang, W.J.; Zhang, L.Q.(张立群); Peng, L.Y.; Xing, Y.; Liu, W.
刊名Optical Materials
出版日期2018
其他题名The influence of thermal annealing process after GaN cap layer growth on structural and optical properties of InGaN/InGaN multi-quantum wells
语种英语
源URL[http://ir.sinano.ac.cn/handle/332007/6184]  
专题苏州纳米技术与纳米仿生研究所_纳米器件及相关材料研究部_刘建平团队
作者单位中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
Yang, J.,Liu, S.T.,Du, G.T.,et al. The influence of thermal annealing process after GaN cap layer growth on structural and optical properties of InGaN/InGaN multi-quantum wells[J]. Optical Materials,2018.
APA Yang, J..,Liu, S.T..,Du, G.T..,Zhang, Y.T..,Li, M..,...&Zhao, D.G..(2018).The influence of thermal annealing process after GaN cap layer growth on structural and optical properties of InGaN/InGaN multi-quantum wells.Optical Materials.
MLA Yang, J.,et al."The influence of thermal annealing process after GaN cap layer growth on structural and optical properties of InGaN/InGaN multi-quantum wells".Optical Materials (2018).

入库方式: OAI收割

来源:苏州纳米技术与纳米仿生研究所

浏览0
下载0
收藏0
其他版本

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。