Etching Process of 980 nm Tapered Semiconductor Laser
文献类型：期刊论文
| 作者 | Zhang, Bao-Shun(张宝顺); Qiao, Chuang(乔闯); Su, Rui-Gong(苏瑞巩); Fang, Dan(房丹); Tang, Ji-Long(唐吉龙); Fang, Xuan(方铉); Wang, Deng-Kui(王登魁); Wei, Zhi-Peng(魏志鹏) |
| 刊名 | Guangzi Xuebao/Acta Photonica Sinica
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| 出版日期 | 2018 |
| 其他题名 | Etching Process of 980 nm Tapered Semiconductor Laser |
| 语种 | 英语 |
| 源URL | [http://ir.sinano.ac.cn/handle/332007/6318]  |
| 专题 | 苏州纳米技术与纳米仿生研究所_纳米加工公共平台 |
| 作者单位 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Zhang, Bao-Shun,Qiao, Chuang,Su, Rui-Gong,et al. Etching Process of 980 nm Tapered Semiconductor Laser[J]. Guangzi Xuebao/Acta Photonica Sinica,2018. |
| APA | Zhang, Bao-Shun.,Qiao, Chuang.,Su, Rui-Gong.,Fang, Dan.,Tang, Ji-Long.,...&Wei, Zhi-Peng.(2018).Etching Process of 980 nm Tapered Semiconductor Laser.Guangzi Xuebao/Acta Photonica Sinica. |
| MLA | Zhang, Bao-Shun,et al."Etching Process of 980 nm Tapered Semiconductor Laser".Guangzi Xuebao/Acta Photonica Sinica (2018). |
入库方式： OAI收割
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