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具有原位栅介质的AlGaN/GaN异质结器件及其制作方法

文献类型:专利

作者张晓东,范亚明,蔡勇,张宝顺
发表日期2018-07-03
国家中国
其他题名具有原位栅介质的AlGaN/GaN异质结器件及其制作方法
申请日期2014-08-22
源URL[http://ir.sinano.ac.cn/handle/332007/6406]  
专题苏州纳米技术与纳米仿生研究所_纳米器件及相关材料研究部_张宝顺团队
推荐引用方式
GB/T 7714
张晓东,范亚明,蔡勇,张宝顺. 具有原位栅介质的AlGaN/GaN异质结器件及其制作方法. 2018-07-03.

入库方式: OAI收割

来源:苏州纳米技术与纳米仿生研究所

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