Modulation of surface reactivity via electron confinement in metal quantum well films: O2 adsorption on Pb/Si(111)
文献类型：期刊论文
| 作者 | Zhang Z(张镇) ; Yanfeng Zhang ; Fu Q(傅强) ; Zhang H(张辉) ; Yao YX(姚运喜) ; Ma T(马腾) ; Tan DL(谭大力) ; Qikun Xue ; Bao XH(包信和) |
| 刊名 | journal of chemical physics
 |
| 出版日期 | 2008 |
| 卷号 | 129页码:14704-14710 |
| 通讯作者 | 包信和 |
| 原文出处 | true |
| 语种 | 英 |
| 公开日期 | 2010-11-30 ; 2011-08-08 |
| 源URL | [http://159.226.238.44/handle/321008/100635]  |
| 专题 | 大连化学物理研究所_中国科学院大连化学物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Zhang Z,Yanfeng Zhang,Fu Q,et al. Modulation of surface reactivity via electron confinement in metal quantum well films: O2 adsorption on Pb/Si(111)[J]. journal of chemical physics,2008,129:14704-14710. |
| APA | 张镇.,Yanfeng Zhang.,傅强.,张辉.,姚运喜.,...&包信和.(2008).Modulation of surface reactivity via electron confinement in metal quantum well films: O2 adsorption on Pb/Si(111).journal of chemical physics,129,14704-14710. |
| MLA | 张镇,et al."Modulation of surface reactivity via electron confinement in metal quantum well films: O2 adsorption on Pb/Si(111)".journal of chemical physics 129(2008):14704-14710. |
入库方式： OAI收割
来源：大连化学物理研究所
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