单片集成电吸收调制分布反馈激光器
文献类型:期刊论文
作者 | 朱洪亮![]() ![]() ![]() ![]() |
刊名 | 光电子·激光
![]() |
出版日期 | 2011 |
卷号 | 22期号:1页码:13-15 |
中文摘要 | 提出一种选择区域外延双有源区叠层(SAG-DSAL)结构新技术,基于此技术设计研制了单片集成电吸收调制激光器(EML),SAG-DSAL-EML管芯的阈值电流为20 mA,工作电流为100 mA时的出光功率为10 mW,由吸收调制器(EAM)加-3 V偏压时的消光比为12 dB,实现了简化制作工艺并提高器件性能的预期目的,有望用于规模化生产 |
学科主题 | 半导体材料 |
收录类别 | CSCD |
资助信息 | 国家"863"计划资助项目,国家自然科学基金资助项目,国家"973"计划资助项目 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2011-08-16 |
源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/21630] ![]() |
专题 | 半导体研究所_中科院半导体材料科学重点实验室 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 朱洪亮,王圩,梁松,等. 单片集成电吸收调制分布反馈激光器[J]. 光电子·激光,2011,22(1):13-15. |
APA | 朱洪亮,王圩,梁松,&朱小宁.(2011).单片集成电吸收调制分布反馈激光器.光电子·激光,22(1),13-15. |
MLA | 朱洪亮,et al."单片集成电吸收调制分布反馈激光器".光电子·激光 22.1(2011):13-15. |
入库方式: OAI收割
来源:半导体研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。