Preparation of Titanum-Zirconium-Vanadium Films by Quantitative Deposition
文献类型：会议论文
| 作者 | S. Wang; J.Q. Shao; C. Chen; X.Q. Ge; W. Li; Y. Wang; W. Wei; B. Zhang; Y.X. Zhang; B.L. Zhu |
| 出版日期 | 2019 |
| 会议日期 | 2019 |
| 会议地点 | Australia |
| 会议录 | Proceedings of the 10th International Particle Accelerator Conference
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| 语种 | 英语 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/283426]  |
| 专题 | 学术会议_国际参会_JaCoW高能所参会会议_IPAC |
| 作者单位 | USTC/NSRL, Hefei, Anhui, People’s Republic of China |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | S. Wang,J.Q. Shao,C. Chen,et al. Preparation of Titanum-Zirconium-Vanadium Films by Quantitative Deposition[C]. 见:. Australia. 2019. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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