原位退火处理对ZnS/Si薄膜结晶性能的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 奎热西·伊布拉辛; 赵彬豪; 麦合木提·麦麦提; 买买提热夏提·买买提; 王嘉鸥
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| 刊名 | 功能材料
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| 出版日期 | 2018 |
| 卷号 | 49期号:12页码:12091-12095 |
| 关键词 | 脉冲激光沉积 闪锌矿 ZnS薄膜 择优生长 |
| ISSN号 | 1001-9731 |
| 其他题名 | Effect of in-situ annealing on crystallization properties of ZnS/Si thin films |
| 文献子类 | Article |
| 英文摘要 | 采用脉冲激光沉积法在Si衬底上生长出厚度为400nm的一系列ZnS薄膜,进行原位退火处理,获得单晶结构的闪锌矿型ZnS薄膜。首次报道了采用原位退火处理后获得单晶ZnS薄膜为立方结构的闪锌矿且薄膜沿(111)晶面择优生长,同时研究了其结晶质量与退火工艺之间的关系。结果显示随着退火温度的升高,薄膜的平均晶粒尺寸由200℃的13.357nm增长到400℃的27.232nm,另外薄膜的平均粗糙度由2.05nm下降达到1.14 nm。采用脉冲激光沉积法制备的ZnS薄膜在400℃退火后表现出极好的单晶择优取向生长以及良好的表面平整度,为研究单晶ZnS薄膜提供一种实验解决思路。 |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:6400062 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/286570]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 作者单位 | 中国科学院高能物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 奎热西·伊布拉辛,赵彬豪,麦合木提·麦麦提,等. 原位退火处理对ZnS/Si薄膜结晶性能的影响[J]. 功能材料,2018,49(12):12091-12095. |
| APA | 奎热西·伊布拉辛,赵彬豪,麦合木提·麦麦提,买买提热夏提·买买提,&王嘉鸥.(2018).原位退火处理对ZnS/Si薄膜结晶性能的影响.功能材料,49(12),12091-12095. |
| MLA | 奎热西·伊布拉辛,et al."原位退火处理对ZnS/Si薄膜结晶性能的影响".功能材料 49.12(2018):12091-12095. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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