关于硬X射线（E ≤ 100Kev）透射式光电发射材料的研究
文献类型：学位论文
| 作者 | 赵小侠 |
| 学位类别 | 博士 |
| 答辩日期 | 1999 |
| 授予单位 | 中国科学院西安光学精密机械研究所. |
| 导师 | 高耀龙 |
| 关键词 | 硬X射线 光电发射 二次发射 俄歇效应 透射式 薄膜 量子效率 |
| 学位专业 | 物理电子学与光电子 |
| 中文摘要 | 本文研究了一种新型硬X射线透射式光电发射材料的工作原理、制作工艺及性能测试。我们系统地回顾了光电发射材料的研制历史，同时对光电发射、二次发射和俄歇效应也进行了简单的讨论。对半导体和介质的内部能级结构和它的池电发射也进行了简要的讨论，对于实验结果也给出了一些解释。对于薄膜的制备及影响薄膜质量和性能的因数也进行了探讨。我们并对所研制的硬X射线透射式光电发射材料的性能进行了测试。我们计算出了材料的量子效率在37% ～ 129%。这些结果圆满地满足了我们的实验目的。最后对整个实验工艺过程及将来的工作进行了简单的展望。 |
| 学科主题 | 物理电子学与光电子 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2011-10-09 |
| 页码 | 52 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/12408]  |
| 专题 | 西安光学精密机械研究所_中国科学院西安光学精密机械研究所(2010年前) |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵小侠. 关于硬X射线（E ≤ 100Kev）透射式光电发射材料的研究[D]. 中国科学院西安光学精密机械研究所.. 1999. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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