碳化硅薄膜制备及其场发射特性
文献类型：期刊论文
| 作者 | Zhao Wu(赵武) ; Zhang Zhiyong(张志勇) ; Yan Junfeng(闫军锋) ; 贠 Jiangni(贠江妮) ; Deng Zhouhu(邓周虎) |
| 刊名 | 天津大学学报
 |
| 出版日期 | 2008 |
| 卷号 | 41期号:1页码:28-32 |
| ISSN号 | 1006-4982 |
| 其他题名 | Fabrication of silicon carbide thin films and their field emission properties |
| 学科主题 | 物理科学和化学 |
| 收录类别 | EI ; CSCD |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2011-10-08 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/11739]  |
| 专题 | 西安光学精密机械研究所_研究生部 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Zhao Wu(赵武),Zhang Zhiyong(张志勇),Yan Junfeng(闫军锋),等. 碳化硅薄膜制备及其场发射特性[J]. 天津大学学报,2008,41(1):28-32. |
| APA | Zhao Wu,Zhang Zhiyong,Yan Junfeng,贠 Jiangni,&Deng Zhouhu.(2008).碳化硅薄膜制备及其场发射特性.天津大学学报,41(1),28-32. |
| MLA | Zhao Wu,et al."碳化硅薄膜制备及其场发射特性".天津大学学报 41.1(2008):28-32. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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