ESI高被引科学家的分布研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张瑞红; 任晓亚 ; 谢黎; 陈云伟; 方曙
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| 刊名 | 世界科技研究与发展
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| 出版日期 | 2019 |
| 卷号 | 41期号:3页码:307-316 |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:6559166 |
| 源URL | [http://ir.las.ac.cn/handle/12502/10620]  |
| 专题 | 文献情报中心_中国科学院成都文献情报中心_情报研究部 |
| 通讯作者 | 方曙 |
| 作者单位 | 中国科学院成都文献情报中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张瑞红,任晓亚,谢黎,等. ESI高被引科学家的分布研究[J]. 世界科技研究与发展,2019,41(3):307-316. |
| APA | 张瑞红,任晓亚,谢黎,陈云伟,&方曙.(2019).ESI高被引科学家的分布研究.世界科技研究与发展,41(3),307-316. |
| MLA | 张瑞红,et al."ESI高被引科学家的分布研究".世界科技研究与发展 41.3(2019):307-316. |
入库方式： OAI收割
来源：文献情报中心
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